Pengenalan Substrat Seramik ALN Nitrida Aluminium Digilap

A substrat seramik aluminium nitrida (AlN) yang digilapialah sejenis substrat AlN khusus yang telah menjalani proses penggilapan untuk mencapai permukaan licin dan rata. Proses mengilat ini biasanya melibatkan mengisar dan menggilap permukaan seramik AlN kepada tahap kelicinan dan kerataan yang tinggi. Substrat yang terhasil sering digunakan dalam aplikasi elektronik dan optoelektronik di mana kemasan permukaan berkualiti tinggi adalah penting. Berikut ialah beberapa perkara penting tentang substrat seramik AlN yang digilap: Permukaan Licin: Proses penggilapan menghilangkan ketidakteraturan permukaan, kekasaran dan ketidaksempurnaan, menghasilkan permukaan yang licin dan sekata. Ini penting untuk aplikasi yang kualiti permukaan substrat mempengaruhi prestasi peranti. Kerataan: Substrat AlN yang digilap biasanya dicirikan oleh tahap kerataan yang tinggi. Kerataan ini penting untuk memastikan keseragaman dalam pertumbuhan lapisan epitaxial dan prestasi peranti yang dibina di atas substrat. Kekonduksian Terma: Kekonduksian terma AlN kekal sebagai harta berharga dalam substrat yang digilap, menjadikannya sesuai untuk aplikasi yang memerlukan pelesapan haba yang cekap. Penebat Elektrik: Seperti substrat AlN yang tidak digilap, versi yang digilap mengekalkan sifat penebat elektrik AlN, menjadikannya sesuai untuk aplikasi elektronik dan semikonduktor. Penggunaan Peranti Semikonduktor: Substrat AlN yang digilap sering digunakan sebagai asas untuk mengembangkan lapisan epitaxial bahan semikonduktor lain, seperti galium nitrida (GaN). Permukaan licin dan rata membantu dalam mencapai pertumbuhan epitaxial berkualiti tinggi dan prestasi peranti. Aplikasi Optoelektronik: Selain peranti semikonduktor, substrat AlN yang digilap digunakan dalam aplikasi optoelektronik, termasuk fabrikasi diod pemancar cahaya (LED), diod laser dan pengesan foto. Substrat seramik AlN yang digilap adalah berharga dalam aplikasi yang kualiti permukaan, kerataan dan pengurusan terma adalah kritikal. Ia membantu meningkatkan prestasi dan kebolehpercayaan peranti elektronik dan optoelektronik, terutamanya dalam aplikasi berkuasa tinggi dan frekuensi tinggi. Tahap pengilat dan keperluan khusus untuk kemasan permukaan substrat mungkin berbeza bergantung pada aplikasi yang dimaksudkan dan keupayaan pengilang.